MOCVD设备PRISMO HiT3过滤器滤芯

该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生产的关键设备，反应腔高温度可达1400度，具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计，单炉可生长18片2英寸外延晶片，并可延伸到生长4英寸晶片。 中微公司Prismo HiT3 MOCVD设备早期的客户包括国内的深紫外LED制造商马鞍山杰生半导体有限公司，该公司的深紫外LED在家用、医疗和科研设备等领域有广泛应用。 深紫外光几十年前就被应用于工业和民用消毒杀菌领域。它通过破坏细菌和病毒的DNA使其丧失繁殖能力来发挥作用。深紫外LED被用于不同波长的杀菌灯中，且与传统的汞灯相比对环境无污染。类似SARS、MERS和新冠病毒的出现使得深紫外LED产品的需求激增，深紫外LED产品可以消灭这些新生微生物。波长260-280nm的UVC波段的深紫外光就是目前该领域**的技术解决方案（例如杰生半导体的深紫外LED产品）。 中微公司设计的Prismo HiT3MOCVD设备具有新颖的腔体设计，能在高温环境下生长高质量氮化铝工艺，同时具备较长的平均免开腔维护间隔时间，进一步延长正常运行时间并提高产能。真空自动化传输系统可以抑制颗粒物的产生，并减少缺陷。自动化升降机构可方便维护操作并有效节省维护时间。 “我们现在已经看到了深紫外LED带来的切实好处，它已成为消灭有害病原体的重要工具。”杰生半导体有限公司董事长康健说道，“随着深紫外LED技术的持续发展，我们为能够在公共和家庭消毒产品领域处于地位而感到自豪。中微公司设计的Prismo HiT3 MOCVD设备可以满足深紫外LED大批量、低生产成本的制造需求。